パラグアイ知的財産局は、商標登録の所要期間を短縮する目的でファストトラック審査を導入しました。商標登録に通常8～12ヶ月かかるところ3ヶ月程度に短縮することを目指しています。
対象は、化粧品類、薬剤、医療機器、食品、飲料など、ニース国際分類の特定の分類を指定した文字商標の商標出願です。
2026年03月31日から2026年10月31日までの実施期間中にシステムの効率性を見極めて更に広い範囲の実施を検討するようです。

出典: Berkemeyer

エジプト知的財産庁(EGIPA)は、2026年決定第64、65号を発行し、2026年04月05日に施行しました。これにより、商標、商号、地理的表示、意匠に関する全手続の公費が下記のとおり値上げされました。
1. 調査費用: 約900%
2. 出願費用: 約200%
3. 更新費用: 約290%

出典: Eldib & Co.、One World Intellectual Property

韓国知識財産処(KIPO)は、「2026年特許審査処理審査計画」を確定、発表しました。
これにより、フィジカルAIおよびバイオ分野が優先審査対象に加えられ、審査待ち期間は平均14ヶ月になります。また、これらの分野の特許出願の審査期間は優先審査案件に限り出願人の意見書提出から2ヶ月(現在は4ヶ月)へ短縮されます。

出典: HA & HA

カタール商標局は、国際分類表第13版の採用に続き、全分類における商標登録を認める旨を2026年03月に通商工業省が発した通達で明らかにしました。これにより、第33類と第32類のアルコール飲料等とビールの商標登録が可能になりました。

出典: Lysaght & Co.

メキシコ特許庁は2026年03月11日、特許、実用新案出願の審査に関する規則の改正を発表しました。改正規則は翌03月12日に施行されましたが、この日前に出願された出願には適用されません。

改正により、特許出願のオフィシャルアクションの回数は最大4回から2回へ削減されました。

また、改正により審査官とのオンライン面談を受けることができるようになりました。

出典: Kasznar Leonardos

韓国知的財産処(KIPO)は、2026年03月11日付で補正案レビュー制度及び再審査面談制度を改善しました。

これにより、補正案レビュー及び再審査面談を最大2回まで利用可能となりました。

また、面談日は面談申請日から1週間後～補正書提出期限満了日(再審査面談の場合は再審査請求期限の満了日)までの間の希望日を指定可能となりました。

出典: KOREANA

ベトナムの知的財産法を改正する法律第131/2025/QH15号による、特許規定の主な変更点をご案内します(2026年02月10日付「意匠規定の変更」記事の続き)。

1.特許出願処理の迅速化
(1)特許出願の早期公開時期は請求から1ヶ月に短縮(現行2ヶ月)。
(2)異議申立期間は出願公開日から6ヵ月(早期審査対象の出願は3ヶ月)に短縮(現行9ヶ月)。
(3)実体審査の請求期限は優先日から36ヶ月に短縮(現行42ヶ月)。
(4)実体審査の完了に必要な法定期間は12ヶ月に短縮(現行18ヶ月)。
(5)保護証書の付与、満了、無効、変更に関する決定は発行日から30日以内に工業所有権官報に掲載される(現行60日以内)。
2.早期実体審査制度の導入
出願人は2026年04月01日以降早期審査を請求することができ、審査結果は3ヶ月以内に出るものとする。
3.特許侵害による物理的、精神的損害に対する賠償額上限の大幅な引き上げ
4.外国出願を予定する発明に対する国家安全保障の審査の対象範囲を「国家機密リスト」に該当する発明に限定
5.保護証書に記載される権利者の明確化

出典: Ageless IP Attorneys & Consultants

国家産業財産権庁(INPI)は商標登録手続及び登録審査基準の大幅な変更を発表し、2026年03月01日より施行されています。
新規出願審査は、識別性欠如、同一商標の先行存在、公序良俗に反する標章に限定されます。実体審査と方式審査は審査の最初の過程で並行して行われます。
また商品・サービスの性質、品質、原産地、その他特徴について誤解をまねく可能性がある商標についての審査は廃止されました。

出典: OMC Abogados&Consultores

(2025年07月22日付パットワールドVol.233の続報)

シンガポール知的財産権庁(IPOS)は、特許出願の加速審査プログラムを見直すため、当該加速審査の申請の受付を2026年01月04日より当分の間停止することを公表しました。
なお、2026年01月04日より前に申請を受理され当該プログラムの適格要件を満たした申請については、審査が加速されます。

出典: IPOS

2025年12月10日にベトナムの国会は知的財産法を改正する法律第131/2025/QH15号を可決しました。この法律は2026年04月01日に正式に発効します。
意匠の規定について特に大きな注目を集めている変更点は次のとおりです。

1.意匠保護の対象範囲の拡大
部分的な意匠、非物理的な形態(即ちサイバー空間に存在する仮想的な製品)の意匠も保護対象となる。
2.新規性に関する例外規定の適用範囲の拡大
意匠が出願権者または当該者から情報を得た者によって何らかの形で公に開示された場合にも適用される。
3.出願から公開までの期間の短縮
出願が方式上有効とみなされた日から1ヶ月以内(現行は2ヶ月以内)に公開されるものとする。
4.意匠出願の審査手続きの簡素化
(1)出願が方式上有効とみなされた受理決定の廃止
(2)実体審査の開始期間の短縮(公開日から起算し現行の7ヶ月以内から5ヶ月以内に短縮)
5.意匠権の保護証書の無効理由の補足
創作者が真の創作者ではない場合も意匠権が無効とされる。
6.異議申立期間の短縮(公告日から起算し現行の4ヶ月から3ヶ月に短縮)

出典: Ageless IP Attorneys & Consultants