韓国知的財産処(KIPO)は、2026年03月11日付で補正案レビュー制度及び再審査面談制度を改善しました。

これにより、補正案レビュー及び再審査面談を最大2回まで利用可能となりました。

また、面談日は面談申請日から1週間後～補正書提出期限満了日(再審査面談の場合は再審査請求期限の満了日)までの間の希望日を指定可能となりました。

出典: KOREANA

ベトナムの知的財産法を改正する法律第131/2025/QH15号による、特許規定の主な変更点をご案内します(2026年02月10日付「意匠規定の変更」記事の続き)。

1.特許出願処理の迅速化
(1)特許出願の早期公開時期は請求から1ヶ月に短縮(現行2ヶ月)。
(2)異議申立期間は出願公開日から6ヵ月(早期審査対象の出願は3ヶ月)に短縮(現行9ヶ月)。
(3)実体審査の請求期限は優先日から36ヶ月に短縮(現行42ヶ月)。
(4)実体審査の完了に必要な法定期間は12ヶ月に短縮(現行18ヶ月)。
(5)保護証書の付与、満了、無効、変更に関する決定は発行日から30日以内に工業所有権官報に掲載される(現行60日以内)。
2.早期実体審査制度の導入
出願人は2026年04月01日以降早期審査を請求することができ、審査結果は3ヶ月以内に出るものとする。
3.特許侵害による物理的、精神的損害に対する賠償額上限の大幅な引き上げ
4.外国出願を予定する発明に対する国家安全保障の審査の対象範囲を「国家機密リスト」に該当する発明に限定
5.保護証書に記載される権利者の明確化

出典: Ageless IP Attorneys & Consultants

(2025年07月22日付パットワールドVol.233の続報)

シンガポール知的財産権庁(IPOS)は、特許出願の加速審査プログラムを見直すため、当該加速審査の申請の受付を2026年01月04日より当分の間停止することを公表しました。
なお、2026年01月04日より前に申請を受理され当該プログラムの適格要件を満たした申請については、審査が加速されます。

出典: IPOS

2025年12月10日にベトナムの国会は知的財産法を改正する法律第131/2025/QH15号を可決しました。この法律は2026年04月01日に正式に発効します。
意匠の規定について特に大きな注目を集めている変更点は次のとおりです。

1.意匠保護の対象範囲の拡大
部分的な意匠、非物理的な形態(即ちサイバー空間に存在する仮想的な製品)の意匠も保護対象となる。
2.新規性に関する例外規定の適用範囲の拡大
意匠が出願権者または当該者から情報を得た者によって何らかの形で公に開示された場合にも適用される。
3.出願から公開までの期間の短縮
出願が方式上有効とみなされた日から1ヶ月以内(現行は2ヶ月以内)に公開されるものとする。
4.意匠出願の審査手続きの簡素化
(1)出願が方式上有効とみなされた受理決定の廃止
(2)実体審査の開始期間の短縮(公開日から起算し現行の7ヶ月以内から5ヶ月以内に短縮)
5.意匠権の保護証書の無効理由の補足
創作者が真の創作者ではない場合も意匠権が無効とされる。
6.異議申立期間の短縮(公告日から起算し現行の4ヶ月から3ヶ月に短縮)

出典: Ageless IP Attorneys & Consultants

2026年01月14日、ネパール産業局(DOI)は知財記録の再構築を求める指令を発令しました。これは2025年09月に同局関連施設で発生した放火と破壊行為で、物理的なファイルが破壊された事件を受けての措置です。
知的財産権の継続的保護の確保のため、2025年09月以前に出願された特許出願及び意匠出願の登録手続または更新手続を保留している出願人に対し、失われた記録を補う完全な複製ファイルを通知から90日以内(2026年04月12日)までに提出するよう求めています。

出典: JAH Intellectual Property

マレーシアでは2025年12月31日に、2022年改正特許法及び関連規則の主要な規定が発効し、透明性の向上と異議申立のための新たな仕組みが導入されました。

1.出願書類の公開範囲を拡大
特許出願が官報に掲載された後、登録官は出願書誌情報、明細書全文及び補正書、審査報告書、出願人と登録官の間の通信記録などの書類を含む幅広い情報を、所定の手数料にて公衆による閲覧を許可する必要があります。

2.特許付与後の異議申立制度を導入
利害関係者は誰でも、付与された特許に対し異議を申し立てることができます。これは高額な訴訟に代わる手段となります。この「利害関係者」は従来の訴訟における「被害者」よりも広範囲な概念であり、競合他社などより多くの当事者が異議申立できるようになりました。
異議申立は、特許公告日から6ヶ月以内に所定の様式による理由書及び証拠書類、所定の手数料を添えて提出します。
臨時異議委員会が事案を審査の上登録官に勧告を行い、登録官は最終決定をします。この決定に対しては裁判所に上訴することができます。

出典: DREW & NAPIER LLC

インド政府は、原子エネルギーの政策を大きく転換し、「インド変革のための原子力の持続可能な活用と発展に関する法律2025(SHANTI法)」を制定しました。
従来は原子力に関連する発明の特許付与を包括的に禁止していましたが、SHANTI法の制定に伴い特許法第4条が改正され、条件付きで特許が認められることになりました。
この改正により、原子力の平和利用に関する発明は特許保護の対象となり得ますが、国家安全保障、戦略的機密性、及び制限された活動に関わる事項については、引き続き中央政府が監督する権限を有します。

出典: Chadha & Chadha

ネパールの産業局(DOI)が2025年12月01日付で商標出願に関する新たな通知を発表しました。本通知に従い、商標出願人は定められた期限内に以下の措置を講じる必要があります。
・公告保留中の出願について
出願手続を提出したものの、必要書類を揃えていない出願人は、本通知の発表日から90日以内(2026年02月28日まで)に、必要書類を添えて再提出する必要があります。
書類不備により7年以上出願係属中の場合、この期限内に再提出されないものは、期限後に出願は自動的に取り消されます。
・登録保留中の出願について
既に工業所有権公報に公告され、異議期間内に第三者から異議申立か提起されなかった商標出願の出願人は、本通知の発表日から6ヵ月以内(2026年05月31日まで)に登録証発行に必要な書類を添えて申請手続を行う必要があります。この期限内に手続が行われない場合、出願は取り消されます。
ネパールで発生した市民暴動に伴い、商標登録局のシステムやファイルは放火によって消失したため、現在商標関連業務の処理(証書発行を含む)に大幅な遅延が生じています。

出典: S.S. Rana & Co. / DE PENNING & DE PENNING

バングラデシュ特許・意匠・商標局(DPDT)は、2025年07月に完全自動化されたIPAS4オンラインプラットフォームを稼働させました。
この新システムは、エンドツーエンド自動化を導入し、商標出願と審査の効率を大幅に向上させます。これにより、商標の処理期間は12～24ヶ月から、わずか数週間に短縮できるとのことです。最近の事例として、出願日から公告日までは約6週間しかかかりませんでした。オンラインシステムの採用は出願人にとって、下記のメリットを得られると考えられます。
1. 市場投入までのスピード化
2. 早期の権利行使機会
3. リアルタイムの現況追跡と自動期限リマインド
4. 法的確実性と出願人の信頼の向上
5. グローバル競争力の強化

出典: S.S. Rana & Co.

ネパールの産業局(DOI)が2025年08月19日付で公示しました、商標の登録及び維持に関する追加書類要件を定めた通知について、下記の通り、重要な最新発表を公示しました。
ネパールにおける最近の市民騒乱を受け、産業局は09月24日付で新たな通知を公示し、前回の通知について新たに通知が発せられるまで一旦停止する旨を発表しました。今回の通知には、産業財産権課のファイルが2025年09月09日付で火災により焼失したため、現在商標関連業務の処理が不可能となっていることが記載されています。
引き続き状況を注視し、進展があり次第にお知らせします。

出典: Chadha & Chadha