エジプト知的財産庁(EGIPA)は、2026年決定第64、65号を発行し、2026年04月05日に施行しました。これにより、商標、商号、地理的表示、意匠に関する全手続の公費が下記のとおり値上げされました。
1. 調査費用: 約900%
2. 出願費用: 約200%
3. 更新費用: 約290%

出典: Eldib & Co.、One World Intellectual Property

2025年12月10日にベトナムの国会は知的財産法を改正する法律第131/2025/QH15号を可決しました。この法律は2026年04月01日に正式に発効します。
意匠の規定について特に大きな注目を集めている変更点は次のとおりです。

1.意匠保護の対象範囲の拡大
部分的な意匠、非物理的な形態(即ちサイバー空間に存在する仮想的な製品)の意匠も保護対象となる。
2.新規性に関する例外規定の適用範囲の拡大
意匠が出願権者または当該者から情報を得た者によって何らかの形で公に開示された場合にも適用される。
3.出願から公開までの期間の短縮
出願が方式上有効とみなされた日から1ヶ月以内(現行は2ヶ月以内)に公開されるものとする。
4.意匠出願の審査手続きの簡素化
(1)出願が方式上有効とみなされた受理決定の廃止
(2)実体審査の開始期間の短縮(公開日から起算し現行の7ヶ月以内から5ヶ月以内に短縮)
5.意匠権の保護証書の無効理由の補足
創作者が真の創作者ではない場合も意匠権が無効とされる。
6.異議申立期間の短縮(公告日から起算し現行の4ヶ月から3ヶ月に短縮)

出典: Ageless IP Attorneys & Consultants

2026年01月14日、ネパール産業局(DOI)は知財記録の再構築を求める指令を発令しました。これは2025年09月に同局関連施設で発生した放火と破壊行為で、物理的なファイルが破壊された事件を受けての措置です。
知的財産権の継続的保護の確保のため、2025年09月以前に出願された特許出願及び意匠出願の登録手続または更新手続を保留している出願人に対し、失われた記録を補う完全な複製ファイルを通知から90日以内(2026年04月12日)までに提出するよう求めています。

出典: JAH Intellectual Property

2026年04月01日より、英国特許庁は特許、商標、意匠に関するすべての公費を25%引上げる計画であると発表しました。
主な引上げ例(いずれもポンド)
特許：オンライン出願60→75調査150→200
商標：オンライン出願170→205更新200→245
意匠：オンライン出願50→60(1意匠)最大10意匠70→85など。

出典: cleveland scott york

2025年12月16日に台湾知的財産局(台湾智慧財産局)は、特許出願及び意匠出願の実体審査着手遅延の請求制度の変更を公布しました。変更後の制度は2026年01月01日より施行されました。

主な変更点は次のとおりです。
1. 特許出願に対する実体審査着手遅延の請求手続きは1回に限るものとし、審査着手日の期限は現行の3年以内から5年以内に緩和されました。
2. 意匠出願に対する実体審査着手遅延の請求手続きは1回に限るものとし、審査着手日の期限は現行の1年以内から2年以内に緩和されました。
3. 公益又は第三者の利益に重大な影響を及ぼす恐れがあると認められた場合は、当該請求手続きを受理しない、又は受理しても審査着手遅延を終了します。

なお、2026年01月01日より前に実体審査着手遅延の請求手続きを行い、指定の審査着手日の期限(特許出願日から3年以内/意匠出願日から1年以内)が未だ到来していない場合は、書面にて当該審査着手日を特許出願日から5年以内/意匠出願日から2年以内に変更することが可能です。

出典: 台湾智慧財産局

カナダ知的財産庁は、2026年01月01日より商標出願及び登録、地理的表示、公的機関の公式標章(official marks)、意匠出願及び登録、特許出願及び維持年金に関係する一部の公費を2.7%値上げします(今回の改定は全ての公費が対象ではありません)。カナダ知的財産庁のウェブサイトにて改定前と改定後の公費の比較が掲載されています。

出典: カナダ知的財産庁

カタール商工省(MOCI)は、意匠登録出願の受付を正式に開始しました。
この意匠登録制度の導入は、同国の既存の知的財産制度(商標、特許、著作権)を補完するものです。形状、輪郭、模様、装飾、素材の視覚的特徴などにおいて、新規かつ独自の特徴を持つ意匠の出願が可能になります。

出典: Abu-Ghazaleh Intellectual Property

南アフリカ共和国では、知的財産法の大幅な改革のために、2026年初頭に新たな特許法案および意匠法案が南アフリカ議会に提出される予定です。

1.特許法の主な改正点：
(1)調査及び実体審査の制度の導入
(2)出願公開後、審査前に第三者による意見提出が可能に
(3)新規性喪失の例外期間の設定
(4)特許付与後の異議申立制度の導入
(5)実用新案保護制度の導入
(6)出願人となる小規模事業者と大規模事業者に対する料金体系の差別化
(7)遺伝資源及び伝統的知識の起源に関する開示要件の維持

2.意匠法の主な改正点：
(1)実用新案保護制度の導入に伴う機能的意匠の保護の廃止
(2)異議申立期間の設定
(3)新規性喪失の例外期間の延長(6ヶ月→12ヶ月)

出典: Adams & Adams

ケニア産業財産権機関(KIPI)は現在、KIPIの親省庁である投資貿易・産業省とガバナンス面で膠着状態にあります。2025年09月30日、投資貿易・産業省はKIPIに対し、省庁委員会の明示的な承認なしに商標、特許、意匠の登録、取消、または更新を行うことを明示的に禁止する指令を発令しました。その結果、KIPIは、投資貿易・産業省との間で明確な運用ガイドラインが合意されるまで、新規出願や更新申請を含む全ての知的財産処理ができなくなりました。

出典: JAH Intellectual Property

米国特許商標庁(USPTO)は、初の人工知能(AI)ベースの画像検索ツール「DesignVision」を発表しました。
審査官は80以上の国際的な意匠データベースで先行技術を画像検索でき、先行技術を特定する速度と精度の向上に基づき、オフィスアクションの具体性と関連性の向上が期待されます。
現在、「DesignVision」は、USPTO内の審査官の利用に限られています。

出典: Cred IPR.LLC