知的財産総局長通達第HKI-14.KI.05.02号(2026年)により、電子特許証の発行を正式に導入しました。
2026年07月16日以降に特許が付与された出願に適用されます。

紙媒体の特許証は発行されなくなりますが、「SAKI」というシステムを通じて個別にダウンロードできます。

出典: インドネシア知的財産総局

韓国大法院は有機発光素子に関する特許の無効審決取り消し訴訟において、選択発明の新規性、進歩性の判断基準を示しました。
判決で示された条件は以下の3つです。

1．先行発明での上位概念の開示だけでは新規性は否定されない。
2．構成の困難性と効果の顕著性を有機的に結合して進歩性を判断する。
3．マーカッシュ形式で表現された広範囲な先行発明に関しては、単に含むことが可能であるという事情のみで特定の化合物の導出は認めない。

出典: YOU ME

インドネシアでは、新規則(法務大臣規則2026年6号)が2026年02月23日に施行されました。
2026年02月23日以降に出願される特許出願はこの新規則を完全に遵守しなければなりません。
この日付より前に出願された特許出願については、経過措置規定に基づき旧規則の下で審査及び処理されます。

旧規則からの主な変更点を次のとおり、ご案内申し上げます。

1．発明の定義に製品及びプロセスに加え、システム、方法、及び用途が明示的に追加されました。
2．クレーム数の超過に係る公費の納付時期は、実体審査請求時から出願時に変更されました。出願時に納付されていない場合、出願は取り下げられたものとみなされます。
3．特許出願において電子による出願手続のみ認められ、電子出願以外の方法は廃止されました。
4．規定の料金の納付を条件とする公開前の早期実体審査制度及び早期公開制度が導入されました。
5．実体審査段階の再審査制度が導入されました。

なお、前記の料金体系に関する規則についてまだ公布されていません。

出典: Tilleke & Gibbins

韓国知的財産処(KIPO)は、2026年05月14日に特許法施行規則を改正、施行しました。
改正により、特許審査猶予(遅延審査)を申請した特許出願人は、審査官がその出願の審査に着手していなければいつでも申請の取り下げや猶予希望時点の変更をすることができるようになりました。(改正前は申請日から2ヶ月以内に限り取り下げ、変更可)

出典: KOREANA

韓国知識財産処(KIPO)は、「2026年特許審査処理審査計画」を確定、発表しました。
これにより、フィジカルAIおよびバイオ分野が優先審査対象に加えられ、審査待ち期間は平均14ヶ月になります。また、これらの分野の特許出願の審査期間は優先審査案件に限り出願人の意見書提出から2ヶ月(現在は4ヶ月)へ短縮されます。

出典: HA & HA

韓国知的財産処(KIPO)は、2026年03月11日付で補正案レビュー制度及び再審査面談制度を改善しました。

これにより、補正案レビュー及び再審査面談を最大2回まで利用可能となりました。

また、面談日は面談申請日から1週間後～補正書提出期限満了日(再審査面談の場合は再審査請求期限の満了日)までの間の希望日を指定可能となりました。

出典: KOREANA

ベトナムの知的財産法を改正する法律第131/2025/QH15号による、特許規定の主な変更点をご案内します(2026年02月10日付「意匠規定の変更」記事の続き)。

1.特許出願処理の迅速化
(1)特許出願の早期公開時期は請求から1ヶ月に短縮(現行2ヶ月)。
(2)異議申立期間は出願公開日から6ヵ月(早期審査対象の出願は3ヶ月)に短縮(現行9ヶ月)。
(3)実体審査の請求期限は優先日から36ヶ月に短縮(現行42ヶ月)。
(4)実体審査の完了に必要な法定期間は12ヶ月に短縮(現行18ヶ月)。
(5)保護証書の付与、満了、無効、変更に関する決定は発行日から30日以内に工業所有権官報に掲載される(現行60日以内)。
2.早期実体審査制度の導入
出願人は2026年04月01日以降早期審査を請求することができ、審査結果は3ヶ月以内に出るものとする。
3.特許侵害による物理的、精神的損害に対する賠償額上限の大幅な引き上げ
4.外国出願を予定する発明に対する国家安全保障の審査の対象範囲を「国家機密リスト」に該当する発明に限定
5.保護証書に記載される権利者の明確化

出典: Ageless IP Attorneys & Consultants

(2025年07月22日付パットワールドVol.233の続報)

シンガポール知的財産権庁(IPOS)は、特許出願の加速審査プログラムを見直すため、当該加速審査の申請の受付を2026年01月04日より当分の間停止することを公表しました。
なお、2026年01月04日より前に申請を受理され当該プログラムの適格要件を満たした申請については、審査が加速されます。

出典: IPOS

2025年12月10日にベトナムの国会は知的財産法を改正する法律第131/2025/QH15号を可決しました。この法律は2026年04月01日に正式に発効します。
意匠の規定について特に大きな注目を集めている変更点は次のとおりです。

1.意匠保護の対象範囲の拡大
部分的な意匠、非物理的な形態(即ちサイバー空間に存在する仮想的な製品)の意匠も保護対象となる。
2.新規性に関する例外規定の適用範囲の拡大
意匠が出願権者または当該者から情報を得た者によって何らかの形で公に開示された場合にも適用される。
3.出願から公開までの期間の短縮
出願が方式上有効とみなされた日から1ヶ月以内(現行は2ヶ月以内)に公開されるものとする。
4.意匠出願の審査手続きの簡素化
(1)出願が方式上有効とみなされた受理決定の廃止
(2)実体審査の開始期間の短縮(公開日から起算し現行の7ヶ月以内から5ヶ月以内に短縮)
5.意匠権の保護証書の無効理由の補足
創作者が真の創作者ではない場合も意匠権が無効とされる。
6.異議申立期間の短縮(公告日から起算し現行の4ヶ月から3ヶ月に短縮)

出典: Ageless IP Attorneys & Consultants

2026年01月14日、ネパール産業局(DOI)は知財記録の再構築を求める指令を発令しました。これは2025年09月に同局関連施設で発生した放火と破壊行為で、物理的なファイルが破壊された事件を受けての措置です。
知的財産権の継続的保護の確保のため、2025年09月以前に出願された特許出願及び意匠出願の登録手続または更新手続を保留している出願人に対し、失われた記録を補う完全な複製ファイルを通知から90日以内(2026年04月12日)までに提出するよう求めています。

出典: JAH Intellectual Property