韓国知的財産処(KIPO)は、2026年05月14日に特許法施行規則を改正、施行しました。
改正により、特許審査猶予(遅延審査)を申請した特許出願人は、審査官がその出願の審査に着手していなければいつでも申請の取り下げや猶予希望時点の変更をすることができるようになりました。(改正前は申請日から2ヶ月以内に限り取り下げ、変更可)

出典: KOREANA

この度、国立標準化産業財産機関(INNORPI)は商標、特許、意匠を含むすべての知的財産関連手続きを完全オンライン化します。
正確な開始日は確定していませんが、2026年末までに移行が完了する見込みで、その後は対面での手続きはすべて廃止されます。
登録証及び更新登録証は今後すべて電子形式で発行され、紙媒体での証書は発行されなくなります。

出典: Eldib&Co

韓国知識財産処(KIPO)は、「2026年特許審査処理審査計画」を確定、発表しました。
これにより、フィジカルAIおよびバイオ分野が優先審査対象に加えられ、審査待ち期間は平均14ヶ月になります。また、これらの分野の特許出願の審査期間は優先審査案件に限り出願人の意見書提出から2ヶ月(現在は4ヶ月)へ短縮されます。

出典: HA & HA

メキシコ特許庁は2026年03月11日、特許、実用新案出願の審査に関する規則の改正を発表しました。改正規則は翌03月12日に施行されましたが、この日前に出願された出願には適用されません。

改正により、特許出願のオフィシャルアクションの回数は最大4回から2回へ削減されました。

また、改正により審査官とのオンライン面談を受けることができるようになりました。

出典: Kasznar Leonardos

メキシコ特許庁は2026年03月11日、特許、実用新案出願の審査に関する規則の改正を発表しました。改正規則は翌03月12日に施行されましたが、この日前に出願された出願には適用されません。

改正により、特許出願のオフィシャルアクションの回数は最大4回から2回へ削減されました。

また、改正により審査官とのオンライン面談を受けることができるようになりました。

出典: Kasznar Leonardos

韓国知的財産処(KIPO)は、2026年03月11日付で補正案レビュー制度及び再審査面談制度を改善しました。

これにより、補正案レビュー及び再審査面談を最大2回まで利用可能となりました。

また、面談日は面談申請日から1週間後～補正書提出期限満了日(再審査面談の場合は再審査請求期限の満了日)までの間の希望日を指定可能となりました。

出典: KOREANA

ベトナムの知的財産法を改正する法律第131/2025/QH15号による、特許規定の主な変更点をご案内します(2026年02月10日付「意匠規定の変更」記事の続き)。

1.特許出願処理の迅速化
(1)特許出願の早期公開時期は請求から1ヶ月に短縮(現行2ヶ月)。
(2)異議申立期間は出願公開日から6ヵ月(早期審査対象の出願は3ヶ月)に短縮(現行9ヶ月)。
(3)実体審査の請求期限は優先日から36ヶ月に短縮(現行42ヶ月)。
(4)実体審査の完了に必要な法定期間は12ヶ月に短縮(現行18ヶ月)。
(5)保護証書の付与、満了、無効、変更に関する決定は発行日から30日以内に工業所有権官報に掲載される(現行60日以内)。
2.早期実体審査制度の導入
出願人は2026年04月01日以降早期審査を請求することができ、審査結果は3ヶ月以内に出るものとする。
3.特許侵害による物理的、精神的損害に対する賠償額上限の大幅な引き上げ
4.外国出願を予定する発明に対する国家安全保障の審査の対象範囲を「国家機密リスト」に該当する発明に限定
5.保護証書に記載される権利者の明確化

出典: Ageless IP Attorneys & Consultants

(2025年07月22日付パットワールドVol.233の続報)

シンガポール知的財産権庁(IPOS)は、特許出願の加速審査プログラムを見直すため、当該加速審査の申請の受付を2026年01月04日より当分の間停止することを公表しました。
なお、2026年01月04日より前に申請を受理され当該プログラムの適格要件を満たした申請については、審査が加速されます。

出典: IPOS

2026年01月14日、ネパール産業局(DOI)は知財記録の再構築を求める指令を発令しました。これは2025年09月に同局関連施設で発生した放火と破壊行為で、物理的なファイルが破壊された事件を受けての措置です。
知的財産権の継続的保護の確保のため、2025年09月以前に出願された特許出願及び意匠出願の登録手続または更新手続を保留している出願人に対し、失われた記録を補う完全な複製ファイルを通知から90日以内(2026年04月12日)までに提出するよう求めています。

出典: JAH Intellectual Property

2026年04月01日より、英国特許庁は特許、商標、意匠に関するすべての公費を25%引上げる計画であると発表しました。
主な引上げ例(いずれもポンド)
特許：オンライン出願60→75調査150→200
商標：オンライン出願170→205更新200→245
意匠：オンライン出願50→60(1意匠)最大10意匠70→85など。

出典: cleveland scott york