ミャンマー知的財産局に対し、著作権登録申請を行うことが可能となりました。
登録申請は文学作品や芸術作品及びその映像、演劇作品、音楽作品、視聴覚作品、映画作品、写真作品などの著作物が含まれます。
海外で発表された全ての作品がミャンマーにて著作権登録申請の資格を得るには、最初の発表日から30日以内にミャンマーで再発表する必要があります。

出典: U KYI WIN

韓国国会で特許法改正案が2024年01月25日に可決され、特許侵害行為の懲罰的損害賠償額の上限が3倍から5倍に引き上げられることとなりました。
また、不正競争防止及び営業秘密保護に関する法律改正案も同日に可決されました。これにより故意的な営業秘密侵害行為及びアイデア奪取行為に対する懲罰的損害賠償額の上限も5倍に引き上げられます。
改正特許法は2024年02月中に公布され、公布後6ヶ月が経過した日から施行される見込みです。

出典: Lee International

商標併存同意制度(コンセント制度)が導入されます。(2024年05月01日施行)
→商標/指定商品が類似の先行商標出願・登録を理由に商標出願が拒絶された場合、先行商標の出願人・登録標権者から同意書を得ることで出願商標を登録することが可能になりました。制度導入前に出願された商標出願にも同制度は適用されますので、2024年05月01日以降に同意書の提出が可能になります。ただし、同一の商標/指定商品の場合は同制度は適用されません。また、同意書を通じて登録された商標間に誤認混同が発生した場合には商標登録を取消すことができます。

出典: Kim & Chang

(2023年10月25日付のニュース＆トピックスの続き)

ミャンマー商業省(MOC)は、規定の願書様式について2023年10月27日付通知を発行し、公式手数料について2023年12月29日付通知を発行しました。
前記の通知に伴い、2024年01月29日にミャンマー知的財産局(IPD)は、2024年02月01日より意匠登録出願の受付を開始する旨を発表しました。
なお、意匠の新規性については、ミャンマー国内のみならず外国における公知も判断されます。

出典: Tilleke & Gibbins

(2023年06月01日付ニュース＆トピックスの関連)

韓国において、2023年05月25日に国会本会議で可決したデザイン保護法一部改正案は、2023年12月21日より施行されました。

出典: KIM & CHANG

ユーラシア特許庁(EAPO)の公費が平均20-30％の値上げとなり2024年01月01日に発効されます。

出典: Vakhnina & Partners

（2022年11月17日、2023年07月05日、2023年09月08日付ニュース＆トピックスに関連）

韓国では、特許出願に関する優先審査期間の短縮及び優先審査の対象が変更になります。

・2023年08月01日より、日本、米国出願に基づいたPPH優先審査は、最初の審査通知までの期間が4ヶ月から3ヶ月に短縮され、また審査通知に対する応答から次の通知までの期間も3ヶ月に短縮されています。

・2024年01月01日より、先行技術調査による優先審査請求は利用できなくなります。

・国家産業戦略に基づき、半導体関連に加え、今後は二次電池分野とバイオ分野の出願についても審査期間が短縮される予定です。

出典: Lee International

韓国では2023年12月01日より 国際意匠登録出願に対する個別指定手数料が次のように変更されます。(いずれもスイスフラン)

▪ 意匠の申請: 184→162/意匠
▪ 最初の更新: 296→260/意匠
▪ 2 回目の更新: 699→615/意匠
▪ 3 回目の更新: 806→710/意匠

出典: WIPO

〔出願時の指定商品役務の選択〕
電子出願時の指定商品・役務を選択する際には規定のリストから商品・役務を選ぶ必要があり、それらの商品・役務の表現を変更することは認められません。また、この規定リストは不定期で変更されているので都度確認し、指定商品・役務を速やかに決定し、出願する必要があります。

〔猶予期間における更新手続〕
更新猶予期間中における、社名・名義・住所変更や譲渡の手続きは認められません。権利期間中に手続きを行う必要があります。

出典: Tilleke & Gibbines

韓国特許庁は、日本国特許庁で2023年09月15日に行なわれた両国の特許専門家の会合で両国間の特許法・制度懸案及び今後の協力について情報を共有した、と発表しました。この会合は両国の特許法・制度の分野での初の実務協議体の発足という意味を持ちます。

会合ではAI発明者の法的地位、グリーン技術に関する特許分類体系などについて情報の共有がなされました。

出典: HA & HA