2024年10月29日、中国国家知識産権局は「商標取下手続きに関する指針」を公表し、商標権者が未使用の商標を自発的に取下申請できる制度の整備に着手しました。
この指針では、商標権者自身が登録商標に使用義務を負うことを明確にし、使用予定のない商標を自発的に取下申請することにより、商標資源を解放し、市場を活性化する重要性を強調しています。
また、「商標取下」の定義や適用範囲が具体的に示され、取下を行うための要件や具体的な手続きに必要な書類や提出方法、手続きの流れが明確化され、商標権者が適切かつ迅速に対応できる体制が整えられています。

出典: 国家知識産権網

中国の国家知識産権局商標局より、2024年上期において商標審査業務の成果統計を次の通りに発表しました。

・商標審査完了案件334.8万件 [審査期間:4～7ヵ月]
・商標ファストトラック審査504件
・公序良俗に重大な不良影響を及ぼす出願拒絶案件958件
・異議申立審査完結案件5万件
・審判請求案件の審決通知発行17.6万件
・各審査過程にて摘発した悪意のある商標登録出願20.5万件
・中国出願人による国際登録出願3,637件

出典: 中国国家知識産権局商標局

中国最高人民法院は、医薬品に関する特許無効審決の取り消し訴訟において、権利者が出願日以降に提出した補足実験データを審理の対象としました。
補足実験データが審理の対象となるのは、直接証明しようとする要証事実が原特許出願に明示的に記載または暗黙的に開示されている場合です。

出典: Foundin IP

世界知的財産権機関(WIPO)はマドリッド制度に関する年次報告書(Madrid Yearly Review)最新版をオンラインで公開しました。最新版では2023年のマドリッド制度の利用に関する情報とデータを提供しています。その年次報告により、国際登録出願の出願人のうち、中国の出願人が出願1件あたり最も多くのマドリッド制度加盟国を指定しました。
米国の商標権者にとって事後指定が多いのは、中国、日本、韓国、オーストラリア、メキシコの順でした。
また、国際登録の権利者は、ドイツ、米国、フランス、スイス、中国で半数以上を占めます。

出典: NTD IP ATTORNEYS

中国特許庁は2023年の知的財産権の出願件数統計を発表いたしました。それぞれの統計は以下の通りです。
特許：1,677,701件(前年比3.6%増)
実用新案：3,063,928件(前年比3.8%増)
意匠：820,361件(前年比3.2%増)

なお、外国からの特許出願件数は、日本、アメリカ、韓国が上位3ヶ国となっており、それぞれの出願件数は以下の通りです。
日本：46,236件(前年比2.2%増)
アメリカ：40,380件(前年比6.3%減)
韓国：20,016件(前年比9.6%増)

出典: 中国特許庁

2024年06月08日から2029年06月07日まで、アフリカ広域知的財産機関(African Regional Intellectual Property Organization ; 略称ARIPO)は、中国国家知識産権局(CNIPA)と提携して二局間特許審査ハイウェイ(PPH)の試行プログラムを実施することになりました。

出典: Adams & Adams

2024年07月15日付けの新華社通信によると、国家知識産権局は、このほど「特許オープンライセンス制度の全面的推進に関する通知」を通達しました。
特許権者が自己特許について、ライセンス料とその支払い方法を提示し、自発的にオープンライセンス声明を提出すると、当局は申請されたオープンライセンスを公告します。取得希望者は設定された料金を支払うことで、ライセンスを取得できます。また、すべてのライセンシーは平等に扱われます。
通知では更に、特許権者にオープンライセンス声明を規範的に提出し、ライセンス料を合理的に見積もるよう指導する等、多方面から本制度の効率的な運用の促進を求めています。

出典: 中国政府網

2024年05月27日付けの中国政府のネットニュースによると、国家知識産権局は、「知的財産権保護システム構築プロジェクト実施方案」を策定し、知的財産権保護政策を含む7つの面で集中的に施策を展開することを提案しました。
審査能力に優れた権利付与システムの構築を目指し、具体的な目標として、2025年までに特許審査期間を15ヵ月に短縮し、一般的な商標登録期間を7ヵ月に安定させることが掲げられました。

出典: 中国政府網

中国知的財産局の2024年05月16日付第581号公告により、2024年06月01日以降発行する登録証(発明、実用新案、意匠)の様式が表面、裏面の2ページから、表面のみの1ページに変更されます。
主な変更点は、今まで裏面にあった出願時の「出願人名」と「発明者氏名」がより目立つよう表面に記載されることとなります。

出典: 中国特許庁

中国知識産権局は2024年01月20日に「書誌的事項一括変更業務処理に関する通知」を出しました。
複数の特許出願又は特許権について書誌的事項の一括変更ができるようになりました(実用新案、意匠についても同様です)。

主な内容は
1．一括変更件数上限はない。
2．変更事項によっては公費発生は必要。
3．結果公告は1回のみ。
これにより関連手続きの効率向上が期待できます。

出典: 上海専利商標事務所