ベトナムで、2018年01月15日以降に発行されたOAに対する応答期限の延長可能な期間が下記の様に改定されました。
・方式審査に関するOAに対する応答の延長期間が、1ヶ月から2ヶ月（一回のみ）に変更
・実体審査に関するOAに対する応答期限の延長期間が、2ヶ月から3ヶ月（一回のみ）に変更

出典: T & T Invenmark

台湾特許庁は、2017年度の知的財産権の出願件数統計を発表いたしました。
それぞれの統計は以下の通りです。

特許：46,122件(前年比5.21%増)
実用新案：19,549件(前年比3.04%減)
意匠：8,120件(前年比3.85%減)
商標：83,802件(前年比5.68%増)

出典: 台湾知的財産局

2018年05月02日以降、対ギリシャ特許庁の手続き(特許出願、EP国内段階移行、意匠出願など)は、すべて電子化されることが発表されました。

出典: Dr. Helen G. Papaconstantinou & Partners Law Firm

韓国特許庁は、2017年9月施行のデザイン保護法の改正に伴い、審査基準を改定しました。
主な変更点は以下の通りです。
①物理的に分離されている2以上のデザインにも、特定の条件下で一の部分デザインとして認めるという、判断基準の緩和
②画像デザインには一部を除き、視認性を求める条項の新設
③新規性喪失の例外の適用を受けるための運用変更
④AIやロボットに直接関連するデザインに対し優先審査を申請可能とする改正

出典: AJU Kim Chang & Lee